【儀表網 研發快訊】近期，中國科學院上海光學精密機械研究所高功率激光元件技術與工程部研究團隊在基于納米疊層的寬帶減反射膜方面取得新進展，相關研究成果以“Plasma-enhanced atomic-layer-deposited HfO2–SiO2 nanolaminates for broadband antireflection coatings”為題發表于Optical Materials。
納米疊層因具備性能可調諧能力，給薄膜設計帶來了極大的靈活性。然而，納米疊層的超薄子層厚度和多界面問題使得基于納米疊層的高光學性能薄膜研制極具挑戰，尤其是對于膜層厚度和膜層折射率較為敏感的寬帶減反射薄膜。
團隊系統研究了影響基于納米疊層的寬帶減反射膜光學性能的因素。針對性提出了一種同時考慮納米疊層子層厚度偏差、子層折射率偏差和界面擴散的預校正策略，并通過等離子體增強原子層沉積技術進行實驗驗證。經預校正策略制備的寬帶減反射薄膜的光譜與理論設計光譜間的均方根誤差低至0.100，降低了一倍。該研究結果為對結構敏感的高光性質量多層膜研制提供了參考。
相關工作得到了國家自然科學基金、中國科學院穩定支持基礎研究領域青年團隊計劃、上海市領軍人才項目、上海市科學技術委員會科技計劃項目的支持。
圖1.三種典型納米疊層的界面擴散、折射率分布修正及其透射光譜
圖2.經預校正策略制備的寬帶減反射薄膜的光譜與膜層剖面
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